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高纯铜靶材 颗粒 Cu靶材 磁控溅射靶材北京京迈研材料科技有限公司
  • 高纯铜靶材 颗粒 Cu靶材 磁控溅射靶材北京京迈研材料科技有限公司

高纯铜靶材 颗粒 Cu靶材 磁控溅射靶材

                      
 

高纯铜靶材 颗粒 Cu靶材 磁控溅射靶材 电子束镀膜蒸发料

纯度 99.99%  99.999%


产品介绍

   铜是人类早使用的金属之一,它是一种过渡元素,延展性好,导热性和导电性高,因此在电缆和电气、电子元件是常用的材料,也可用作建筑材料,可以组成众多种合金。铜的活动性较弱,铁单质与硫酸铜反应可以置换出铜单质。铜单质不溶于非氧化性酸。


产品参数

   中文名 铜  分子量 63.546   原子序数 29    熔点(?C) 1357.77K(1083.4℃)

   密度   8.960(固态)8.920(熔融液态) 沸    点 单质2835K(2562℃)  原子半径 145pm  莫氏硬度 3


公司介绍

  北京京迈研材料科技有限公司多年来一直专业从事光学镀膜材料及溅射靶材的研发与生产。靶材涵盖氧化物、硫化物、氟化物、氮化物、碲化物、硒化物、硼化物、碳化物、锑化物、氯化物、硅化物、多种元素复合掺杂功能陶瓷、金属及其合金等。



 

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